光刻 Lithography

光刻是芯片制造中利用光将电路结构图案投射到硅晶圆上的工艺步骤。制程的最前沿取决于极紫外（EUV）光刻技术，而ASML在相关设备上拥有事实上的垂断，使其成为供应链中战略地位最为关键的公司之一。光刻能力决定了一个工艺节点能做到多小——因此也决定了其密度和能效的下限。参见Sentinel Tickers 101。