光刻技術 Photolithography

光刻技術是一種以光為基礎的製程，用於將電路圖形轉印至矽晶片上，是所有現代晶片製造背後的基礎步驟。該製程反覆透過光罩將電路圖形投射到感光塗層上，逐層堆疊出晶片結構。最先進的製程需要極紫外光（EUV），而這正是 ASML 戰略地位的來源。參見 Foundry Economics 101。