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フォトリソグラフィ Photolithography
シリコン上に光を用いて回路パターンを形成する技術で、現代の半導体製造すべてを支える基盤工程。
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フォトリソグラフィは、光を用いてシリコン上に回路パターンを形成するプロセスであり、現代の半導体製造すべてを支える基盤工程である。フォトマスクを介して回路パターンを感光性コーティング上に繰り返し投影し、チップを層ごとに構築していく。最先端工程では極端紫外線(EUV)光が必要とされ、これがASMLの戦略的地位の源泉となっている。Foundry Economics 101を参照。