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リソグラフィ Lithography
光を用いてシリコン上に回路パターンを形成する半導体製造工程。ASMLのEUV独占が最先端を規定する。
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リソグラフィとは、光を使ってシリコンウェハー上に回路パターンを形成する半導体製造工程である。最先端の製造には極端紫外線(EUV)リソグラフィが不可欠であり、ASMLがその装置において実質的な独占状態にあるため、サプライチェーン上、戦略的に最も重要な企業の一つとなっている。リソグラフィの能力は、プロセスノードをどれだけ微細化できるか——すなわちどれだけ高密度かつ高効率にできるか——の下限を規定する。Sentinel Tickers 101を参照。