光刻 Photolithography

光刻是利用光将电路特征图案投射到硅片上的工艺,是现代芯片制造背后的基础步骤。它通过掩模将电路图案反复投影到光敏涂层上,逐层构建芯片结构。制程的最前沿需要极紫外(EUV)光源,这正是ASML战略地位的来源。参见Foundry Economics 101。